真空爐是用石墨作發(fā)熱元件的真空電阻爐，主要應(yīng)用于氮化鋁粉體制備等在真空或反應(yīng)氣氛中高溫?zé)Y(jié)，也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫?zé)崽幚砘蛸F金屬材料的除氣處理。
該設(shè)備的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)先進(jìn)合理，設(shè)計(jì)及制造符合相應(yīng)的國家及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)范，能夠滿足用戶的使用要求。其配套產(chǎn)品和元器件具有先進(jìn)水平，能夠適應(yīng)長期、穩(wěn)定、安全、可靠的生產(chǎn)需求。設(shè)備的節(jié)能效果好。使用、操作、維修方便簡捷，造型美觀，安全可靠，售后服務(wù)優(yōu)良。
本設(shè)備在熱處理中的應(yīng)用：
1、真空熱處理可實(shí)現(xiàn)無氧化、無脫碳、無滲碳加熱；
2、有脫脂除氣等作用，從而達(dá)到表面光亮凈化的效果；
3、零件經(jīng)真空熱處理后，畸變小，質(zhì)量高；
4、基本上無公害；
4、真空加熱爐可在較高溫度下工作；
5、某些化學(xué)熱處理，如滲碳、滲氮、滲鉻、滲硼，以及多元共滲速度較快，省時(shí)間，效率較高。
真空爐熱處理工藝的操作流程：
1、工件在真空狀態(tài)下淬火，應(yīng)使用真空淬火油，此油具有較低的飽和蒸氣壓；
2、真空爐的保養(yǎng)應(yīng)在真空或充純氮狀態(tài)下，避免平時(shí)不用時(shí)吸氣，吸潮；
3、國內(nèi)真空爐的壓升率應(yīng)不大于1.33Pa/h，國外某些企業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)為0.67Pa/h；
4、真空回火爐應(yīng)該具有快冷裝置。冷卻水的壓力應(yīng)該大于0.2Mpa，流量應(yīng)可調(diào)；
5、處理鈦合金時(shí)，不宜用氮?dú)庾鳛槔鋮s氣體，因?yàn)殁伜偷诟邷叵路磻?yīng)，形成金黃色的氮化鈦；
6、冷卻氣體：鋼一般采用百分之99.995純度的氮?dú)?，高溫合金采用百分?9.999的氮?dú)饣驓鍤猓伜辖鸩捎冒俜种?9.995的氬氣；
7、真空加熱以輻射為主，工件在爐內(nèi)應(yīng)該保持間距；
8、升溫過程中，工件及爐內(nèi)材料會(huì)放氣，使真空度下降；
9、升溫：放入工件后，一般先預(yù)抽至6.67Pa時(shí)方可升溫加熱；
10、真空回火、真空退火、真空固溶處理及真空時(shí)效的加熱溫度一般與常規(guī)處理時(shí)加熱溫度相同。
